Η Samsung εισάγει υψηλή NA EUV για να ενισχύσει την ανταγωνιστικότητα στην αγορά 2nm

Η Samsung Electronics έχει εισαγάγει τον εξοπλισμό λιθογραφίας ημιαγωγού επόμενης γενιάς, το υψηλό αριθμητικό διάφραγμα (NA) Extreme Ultraviolet (EUV) Μηχανή λιθογραφίας (High NA EUV) -exe: 5000-στην εγκατάσταση Hwaseong στη Νότια Κορέα στις αρχές Μαρτίου.Το High NA EUV είναι απαραίτητο για την κατασκευή εξαιρετικά λεπτών κυκλωμάτων κάτω από το 2nm, σηματοδοτώντας την προσπάθεια της Samsung να ενισχύσει την τεχνολογία διεργασίας υπο-2NM.

Η έκθεση υπογραμμίζει ότι αυτός ο προηγμένος εξοπλισμός έρχεται με μια έντονη τιμή των 500 δισεκατομμυρίων KRW (περίπου 2,501 δισεκατομμύρια RMB) και παρέχεται αποκλειστικά από την ASML, καθιστώντας το ένα από τα πιο περιζήτητα εργαλεία στη βιομηχανία ημιαγωγών.

Από πέρυσι, η Samsung αξιολογεί την εφαρμογή του High NA EUV στη διαδικασία παραγωγής της και σύμφωνα με πληροφορίες σχεδιάζει να το χρησιμοποιήσει για τους κόμβους ημιαγωγών επόμενης γενιάς κάτω από το 2nm.

Το υψηλό NA EUV θεωρείται κρίσιμος παράγοντας για τις προηγμένες διαδικασίες χυτηρίων υπο-2NM.Οι κορυφαίες εταιρείες ημιαγωγών παγκοσμίως αγωνίζονται να υιοθετήσουν αυτήν την τεχνολογία αιχμής.Η Intel έχει ήδη υπογράψει σύμβαση για να αγοράσει έξι από αυτά τα μηχανήματα, με την πρώτη που παραδόθηκε το 2023. Εν τω μεταξύ, η TSMC εισήγαγε πρόσφατα τον εξοπλισμό στη γραμμή παραγωγής της για να επιταχύνει την υιοθέτηση της τεχνολογίας διεργασίας 2NM.

Σύμφωνα με την Trendforce, το μερίδιο αγοράς του Global Foundry της TSMC το τρίτο τρίμηνο του 2023 έφτασε το 67,1%, αυξήθηκε κατά 2,4 ποσοστιαίες μονάδες από το τρίτο τρίμηνο του 2023.